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ZKXB-A真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統工具對樣件造成損壞。可與VTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。

ZKXB-B真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統工具對樣件造成損壞。可與VTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。

VTC-100PAD 真空加熱旋轉涂膜機適用于半導體、晶體及光學元件等材料的表面涂覆與薄膜制備。設備兼容強酸、強堿等腐蝕性溶液，滿足多樣化工藝需求。標配3英寸加熱鋁制真空吸盤（支持定制），通過真空吸附固定樣品，確保運行穩定與定位精度。系統支持多段程序控制（最多6段），實現轉速分段調節與平滑加速，提高薄膜均勻性并減少材料浪費。結構緊湊、操作簡便，適用于科研及實驗室應用。

VTC-110PAX高通量自動旋轉涂膜系統采用自動吸液注液方式，注液后在基片表面自動旋涂出一層薄膜，旋涂后移動基片至烤膠機表面進行薄膜烘干。液體可進行攪拌防止沉淀，如需加熱可對液體進行加熱操作。整個操作過程在11寸觸摸屏上進行設置，操作直觀方便。該設備適用于大專院校及科研實驗室進行的鈣鈦礦薄膜及其他液體薄膜的研究，可根據客戶各種要求進行設備定制。

VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成

VTC-100PAH真空旋轉涂膜機適用于半導體工藝、晶體、光盤、制版等表面涂膜制備。VTC-100PAH真空旋轉涂膜機是一款高性能精密勻膠機，采用了優良的設計理念，配合精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠操作。設備腔體采用聚丙烯材質，具有耐熱性、電絕緣性、和良好的高耐磨加工性能等特點。本機腔體不可抽真空，工作時利用真空吸盤及氣路管線與外部真空泵相連，能很好的將樣件牢固的吸附在載樣盤上