旋轉涂膜機(又稱旋涂機、甩膠機)是一種利用高速旋轉產生的離心力，將膠液均勻涂覆在硅片、玻璃等平滑基底表面以形成薄膜的精密設備，廣泛應用于半導體、微電子、光學及科研領域 。
該設備通過控制轉速、時間、加速度等參數，可實現對膜層厚度和均勻性的準確調控。典型工作流程包括滴膠、加速旋轉、勻膠和溶劑揮發四個階段，后形成納米至微米級的均勻薄膜 。
核心工作原理
基底固定與液體滴加
將待涂覆的基底(如硅片、玻璃、晶圓等)固定在旋轉平臺(真空吸盤或卡盤)上，通過自動或手動方式將液體準確滴加至基底中心。
高速旋轉與離心力作用
旋轉平臺加速至設定轉速(通常為數百至數萬轉/分鐘)，離心力驅使液體從中心向邊緣擴散，形成均勻薄膜。多余液體被甩離基底，薄膜厚度逐漸穩定。
溶劑揮發與薄膜固化
涂覆后的薄膜通過加熱或真空環境干燥，溶劑揮發后形成固態或半固態薄膜，完成固化過程。
核心組件與結構設計
旋轉平臺(真空吸盤/卡盤)
固定基底并高速旋轉，采用真空吸附或機械卡盤設計，確保基底在旋轉過程中不發生偏移或脫落。
點膠裝置
支持靜態點膠(基底靜止或低速旋轉時滴加)與動態點膠(基底高速旋轉時滴加)，部分型號集成自動滴膠單元，提升薄膜均勻性與重復性。
腔體與排氣系統
封閉式內腔設計通過頂蓋與底部排氣口協同控制氣流，*小化湍流、穩定干燥環境，防止涂液飛濺與異物污染。部分型號采用多區域排氣擋板，進一步優化涂層均勻性。
控制界面
現代旋涂機配備觸摸屏或數字控制面板，支持轉速、時間、加速度等參數實時調節與程序存儲，操作界面智能化與簡便化。
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