VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機

簡要描述：VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成

產品型號：
廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-03-30
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產品分類CLASSIFICATION

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VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成；可同時交替涂覆兩種薄膜，兩種液體各交替最多500次，實現千層薄膜的涂覆。本機可用于酸、堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配不同尺寸的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤，利用真空吸附的方式固定基片。該機主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
1、真空吸附方式固定樣件，操作簡便。
2、根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。
3、電機采用24V直流無刷電機，可靠性高，適應性強，維修與保養簡單，噪音低，震動小，運轉平穩，啟動快速穩定，加速后運行平穩，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。
4、采用無油真空泵，體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。
5、腔體采用聚四氟乙烯材質，使用壽命更長，耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能；機身采用鈑金結構，結實耐用且質輕。
6、加熱后可通氣體進行快速冷卻。
7、中文操作界面（全英文操作系統可選）
8、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止。
9、控制界面采用觸摸屏控制，操作簡單方便，顯示直觀。
10、全自動的涂膜過程：自動滴膠、自動通氣、自動旋涂、自動烘干。
11、可兩種液體交替涂膜，最多可涂1000層薄膜。

產品名稱	VVTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機
產品型號	VTC-100ML
安裝條件	1、溫濕度：10-85%RH (at 25℃ 無凝露）溫度： 0-45℃。 2、設備周圍無強烈震源和腐蝕氣體。 3、水：需排污下水 4、電：單相：AC220V 50Hz 國標三極插座 10A 必須有良好接地 5、氣：①樣品盤：真空負壓（真空泵）抽氣流量不小于 70L/M ②冷卻：壓縮氣體或自行規定的惰性氣體 6、工作臺建議 1500X600X700mm 承重 100KG 以上(固體水泥臺最佳） 7、通風裝置：無特殊要求
主要參數	1、涂膜機供電 DC 24V 15A（標配“電源適配器"） 2、滴料器供電 DC 24V 15A（標配“電源適配器"） 3、加熱供電獨立供電：AC220V 50Hz 4、總功率 ≤350W(不含加熱與外接真空泵） 5、加熱功率 1350W 6、加熱溫度最高溫度：RT～200℃ 7、控溫精度 ±2℃ 8、加熱方式輻射烘烤加熱（碳纖維加熱管） 9、控制方式 PLC 編程器+觸摸屏 10、涂膜主機腔體（材質）：聚四氟乙烯 11、載樣盤（吸盤）：聚四氟真空吸盤和鋁制吸盤：各一套（1 英寸、2 英寸、4 英寸）(加熱時請使用聚四氟吸盤，鋁制吸盤導熱快勿使用) 12、真空壓力顯示電子式數顯壓力傳感器(數顯真空壓力表)低壓型：-100～100kPa 13、涂膜運行方式包含兩組程序：A、B 組、組循環可達 500 次，每組程序分為六段運行 14、涂膜轉速 500～10000rpm(任意整數設置，最小增量為 1rpm) 15、增減速率每段增減速設置范圍：10～2000rpm(增量為 10 的整數倍) 16、轉速穩定性 ±1% 17、加料方式滴料器---精準定量滴液：搭配平口針頭
產品規格	18、產品規格： ·尺寸：·尺寸：主機：450mmX400mmX580mm 加熱控制箱：360mmX400mmX130mm 滴料器：270mmX310mmX280mm ·重量：40kg

序號	名稱	數量	圖片鏈接
1	真空吸盤（含O型圈）	6個（?25.4mm、?50.8mm、?101.6mm）
2	中心定位器	3個	-
3	滴膠注射器（20ml）	2個
4	微量蠕動泵	1套	-
5	無油真空泵	1臺