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GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀是一款高真空的蒸發鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設有4個蒸鍍加熱舟，每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍，加熱舟上方有一個可旋轉擋板，當其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實現對有機材料的蒸發鍍膜，可滿足發光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗

GSL-1800X-ZF-AM連續式多腔室蒸發鍍膜系統是一款高真空的可連續進樣的蒸發鍍膜儀，主要由傳遞室和蒸發鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現往復運動，由調頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內均有定位功能，可實現原點復位。特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。

VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統是新自主研制開發的鍍膜設備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現往復運動，由調頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內均有定位功能，可實現原點復位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。