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產(chǎn)品中心
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PCE-8等離子清洗機是一款較大型的清洗機，等離子腔體為 Φ8.5 “×12“的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。
產(chǎn)品簡介：PCE-6V小型等離子清洗機集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實現(xiàn)對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下
PCE-66紫外臭氧清洗機（帶攪拌機構(gòu)）是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。內(nèi)置加熱管，可加熱基片，加熱溫度上限150℃，PID方式控溫，可設(shè)置30段升降溫程序。帶有攪拌功能，用作氧化物包括干法電極電池正極材料的表面處理。
PCE-66紫外臭氧清洗機是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。內(nèi)置加熱管，可加熱基片，最高加熱溫度150℃，PID方式控溫，可設(shè)置30段升降溫程序。
PCE-22紫外臭氧清洗機提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。
CE-600、800自動清洗機是專門用于晶圓、QFN、玻璃、基板、手機模組和陶瓷等切割后的清洗設(shè)備。此系列為二流體清洗方案，采用可編輯控制器＋全彩色觸摸屏為操作系統(tǒng)，令設(shè)備性能更加穩(wěn)定、操作便捷。采用特殊內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計能均勻混合，產(chǎn)生細(xì)微液滴尺寸的噴霧或粗液滴噴霧。
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